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一臺具備4個操作位點、提供安全、準確地加熱、實時冷卻、軟件控制和數據記錄的24小時/7天無人值守的自動化化學儀器。
一臺儀器,無限可能
4個單獨操作位點 | 磁力&機械攪拌 | 2ml~400ml |
![]() | ![]() | ![]() |
兼具加熱、冷卻功能 每個位點可以單獨操作 | 標配磁力攪拌功能 可選配強勁的Mya頂置式機械攪拌器 | 兼容**的反應瓶樣式和體積 |
自動化&數據記錄 | -30~180℃ | 控制第3方設備 |
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軟件控制 進行24小時/7天無人值守的化學實驗 | 模塊控溫、樣品控溫 相鄰位點間溫差可達200℃ | 電腦版軟件可控制:注射泵、蠕動泵、 pH計、真空泵等多種第3方設備 |
靈活多用 | 更安全、更清潔、更環保、更高效 | |
4個單獨操作位點,標配加熱、實時冷卻功能 緊湊型設計,適用于多種實驗應用 兼容多種多樣尺寸和形狀的反應容器 程序化控制您的實驗,實時自動記錄實驗數據 準確地溫度控制 磁力攪拌,機械攪拌 | 取代低效、雜亂和不安全的油浴、干冰浴 更加節省實驗室空間 兼容第3方設備:天平、泵和pH計等 軟件控制,提高安全性,減少人為錯誤 24小時/7天無人值守運行,提高效率 |
主要特點
![]() | 歧管型 或 回流型 機頭
|
磁力攪拌 或 機械攪拌
| ![]() |
![]() | 可選多種多樣尺寸和形狀的反應容器 從2ml~400ml,樣品瓶、試管、圓底燒瓶和過程釜體
|
Mya 4控制選項 24小時/7天無人值守地進行您的實驗,可選的操作系統:
|
根據您的需求配置Mya 4 您可以靈活地配置Mya 4的各類配件,用以適配您的各類實驗
|
工藝套裝 | 小試套裝 | 其他配置 |
配置:歧管式機頭 過程釜體 | 配置:回流式機頭 圓底燒瓶 | 配置: 樣品瓶和試管 |
靈活多用,適用于從小試研發到工藝開發的眾多實驗應用 |
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小結 | |
4個單獨操作位點 | ——可同時使用1,2,3或4個位點 ——平行操作4個位點,或由多個使用者分別單獨操 |
準確地溫度控制 | ——溫度控制范圍:-30~180℃ ——相鄰位點間溫差可達200℃ ——每個位點的溫度單獨控制 ——可選擇控制模塊溫度或樣品溫度 |
使用自來水或冷水機 | ——Mya 4使用先進的半導體制冷技術,可快速制冷至-30℃ ——半導體芯片需要自來水或冷水機來帶走熱端熱量,以持續制冷 冷卻源 自來水(15℃) 冷水機(5℃) ***模塊溫度 -25℃ -35℃ ***樣品溫度 -20℃ -25℃ |
磁力攪拌或機械攪拌 | ——標配磁力攪拌功能,轉速范圍:100~1000rpm ——可選配Mya頂置式機械攪拌器,轉速范圍:100~1000rpm ——每個位點的轉速單獨控制 ——相鄰位點可分別使用磁力攪拌或機械攪拌,互不影響 |
一臺具備4個操作位點、提供安全、準確地加熱、實時冷卻、軟件控制和數據記錄的24小時/7天無人值守的自動化化學儀器。
一臺儀器,無限可能
4個單獨操作位點 | 磁力&機械攪拌 | 2ml~400ml |
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兼具加熱、冷卻功能 每個位點可以單獨操作 | 標配磁力攪拌功能 可選配強勁的Mya頂置式機械攪拌器 | 兼容**的反應瓶樣式和體積 |
自動化&數據記錄 | -30~180℃ | 控制第3方設備 |
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軟件控制 進行24小時/7天無人值守的化學實驗 | 模塊控溫、樣品控溫 相鄰位點間溫差可達200℃ | 電腦版軟件可控制:注射泵、蠕動泵、 pH計、真空泵等多種第3方設備 |
靈活多用 | 更安全、更清潔、更環保、更高效 | |
4個單獨操作位點,標配加熱、實時冷卻功能 緊湊型設計,適用于多種實驗應用 兼容多種多樣尺寸和形狀的反應容器 程序化控制您的實驗,實時自動記錄實驗數據 準確地溫度控制 磁力攪拌,機械攪拌 | 取代低效、雜亂和不安全的油浴、干冰浴 更加節省實驗室空間 兼容第3方設備:天平、泵和pH計等 軟件控制,提高安全性,減少人為錯誤 24小時/7天無人值守運行,提高效率 |
主要特點
![]() | 歧管型 或 回流型 機頭
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磁力攪拌 或 機械攪拌
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![]() | 可選多種多樣尺寸和形狀的反應容器 從2ml~400ml,樣品瓶、試管、圓底燒瓶和過程釜體
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Mya 4控制選項 24小時/7天無人值守地進行您的實驗,可選的操作系統:
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根據您的需求配置Mya 4 您可以靈活地配置Mya 4的各類配件,用以適配您的各類實驗
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工藝套裝 | 小試套裝 | 其他配置 |
配置:歧管式機頭 過程釜體 | 配置:回流式機頭 圓底燒瓶 | 配置: 樣品瓶和試管 |
靈活多用,適用于從小試研發到工藝開發的眾多實驗應用 |
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小結 | |
4個單獨操作位點 | ——可同時使用1,2,3或4個位點 ——平行操作4個位點,或由多個使用者分別單獨操 |
準確地溫度控制 | ——溫度控制范圍:-30~180℃ ——相鄰位點間溫差可達200℃ ——每個位點的溫度單獨控制 ——可選擇控制模塊溫度或樣品溫度 |
使用自來水或冷水機 | ——Mya 4使用先進的半導體制冷技術,可快速制冷至-30℃ ——半導體芯片需要自來水或冷水機來帶走熱端熱量,以持續制冷 冷卻源 自來水(15℃) 冷水機(5℃) ***模塊溫度 -25℃ -35℃ ***樣品溫度 -20℃ -25℃ |
磁力攪拌或機械攪拌 | ——標配磁力攪拌功能,轉速范圍:100~1000rpm ——可選配Mya頂置式機械攪拌器,轉速范圍:100~1000rpm ——每個位點的轉速單獨控制 ——相鄰位點可分別使用磁力攪拌或機械攪拌,互不影響 |